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晶圆单片式清洗机
单片式清洗机是由几个清洗腔体组成，再通过机械手将每一片晶圆送至各个腔体中进行单独的喷淋式清洗，清洗效果较好，避免了交叉污染和前批次污染后批次，具有极高的工艺环境控制能力与微粒去除能力，有效解决晶圆之间交叉污染的问题。 可定制2/4/6/8/12/16腔室，单腔室处理速度可达到35片/小时，根据客户需求定制适用于8寸/12寸硅片清洗，内... 米兰平台 +
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全自动槽式清洗机
全自动槽式清洗机广泛应用于集成电路领域、先进封装领域里的清洗、刻蚀后、光刻胶去除等工艺。与传统的清洗设备相比自动化程度更高，可用于4寸、6寸、8寸、12寸硅片清洗。还可以选配兆声波系统、管路防静电等配置。设备可以提供在异常情况下对硅片的独特保护（SPS系统）。可提供多个槽体或单片进行化学药液或纯水，结合喷淋、溢流、... 米兰平台 +
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去胶清洗机
设备名称：槽式湿法去胶机
整机尺寸：约 5200mm（L）× 1900mm(W)×2200mm(H)；
操作台面高度：950±50mm；
适用产品：12inch晶圆（兼容8inch晶圆）；
操作系统：PLC 操作系统；
设备具有12英寸（兼容8英寸）晶圆上的光刻胶去除功能；
适用于12英寸和8英寸晶圆上的正性光刻胶、负性光刻胶去除工艺，并对晶圆上的相关金属... 米兰平台 +
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